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정확한 분석, 신뢰성 있는 데이터로 앞서다

' 다기능 라만 시스템, 만타레이 '

   


정확한 분석, 신뢰성 있는 데이터로 앞서다

' 다기능 라만 시스템, 만타레이 '

넓은 호환성과 다양한 측정 지원.

 

모듈화된 시스템으로 여러 종류의

상용 광학 현미경에 적용할 수 있습니다.

( Standard / Fusion / Inverted )

총3가지 버전으로 용도에 맞게 사용할 수 있습니다.


Feature & Specification



기존 분석 장비와의 구조적인 차별화를 통한 사용자 중심의 설계 기법으로 편하고 빠르며 정확한 계측 시스템을 제공합니다.

General Specifications 

측정장치 (Detector)


  • TE cooled CCD 
  • Pixel Size 26x26 ㎛
  • Active pixels 1024 x 127
  • BVF(Back illuminated CCD) 또는 OE(Open electrode CCD) 선택 

레이저 장치 (Laser Module)

 

  • 최대 3개의 Laser 선택 가능 325nm, 488nm, 514nm, 532nm, 633nm ,785nm 등 (요청시 그 외의 파장도 적용가능)
  • Continuous ND Filter 제어를 통한 레이저 출력의 미세 조정
  • 레이저 스위칭 자동 제어
     

광학 현미경 (Microscope)


  • X5 ~ 100x Dry, water , oil immersion 사용 
  • 공간 분해능 : 횡축 분해능 < 1 um (XY), 종축 분해능 < 2.0 um @ X100 , N.A 0.95
  • 정밀한 광학 설계를 이용한 균일한 광 조사 + 3M CMOS 카메라 탑재
     

현미경용 자동 제어 스테이지

(Motorized microscope xyz stage)


  • 이동 가능 거리 75 x 52 mm
  • 최소 이동 거리 0.05㎛ (XY), 0.002㎛  (Z)
  • 맵핑 속도 50 x 50 pixels < 1min (CCD 노출 시간 0.01s 기준)

분광기 (Spectroscopy)

 

  • 초점 거리 250mm 수차 보정 분광기
  • 교체 가능한 동축형 Grating
    최대 14가지의 서로 다른 Grating 설치 가능
  • 분광 분해능 : *1.5cm⁻¹ per CCD pixel @1800gr/nm, 532nm laser 
    분광 분해능 : *2.3cm⁻¹  per CCD pixel @ 1200gr/nm, 532nm laser   

자동화 장치 (Automation)


  • 이중 자동 보정 시스템 : 표준 램프와 표준 시료 내장으로 장비 상태를 자동 점검 및 교정 
  • 완전 자동화 제어 : 측정, 데이터 수집, 장비 세팅을 자동화 하여 일관된 측정 환경 제공
  • 편광 제어 및 측정 자동화 (2025년 이내 업데이트 예정) : 편광 제어 및 측정 가능

*CCD 모델별 권장 적용 분야 

BVF (Back-illuminated, fringe-suppressed)



*강점 - 높은 양자 효율(QE), 저조도 및 근적외선(NIR) 영역에서 우수한 감도


*약점 - 750nm 이상  NIR 영역에서 프린지 패턴 발생이 분석의 노이즈로 발생할 가능성 있음 
 

권장 사용 사례 / 권장 파장대 - 근적외선 영역의 양한 Raman / PL 신호 측정 (예: 생체 샘플, NIR Raman)

OE (Open Electrode)



*강점 - 안정적인 베이스라인, NIR 영역에서 프린지 패턴 없음


*약점 - BVF 대비 낮은 QE, UV/NIR 영역에서 감도 낮음 
 

권장 사용 사례 / 권장 파장대 - 가시광 영역의 강한 Raman 신호 측정 혹은 PL 측정 (예: 고분자, 무기 재료), 베이스라인 안정성이 중요한 분야

*레이저 파장별 적용 분야   

바이오 (세포, 조직)



*권장 레이저 파장 - 785nm (낮은 형광 노이즈), 633nm


*파장 선택 기준 - 생체 샘플에서 발생하는 형광 노이즈를 최소화


SERS (표면 증강 라만)



*권장 레이저 파장 - 532 nm (강한 증강), 633 nm (강한 증강)


*파장 선택 기준 - 532 nm, 633nm는 금속 나노 구조와의 공명으로 라만 신호를 증폭


재료 과학 (고분자, 반도체)



*권장 레이저 파장 - 532 nm, 488 nm 


*파장 선택 기준 - 라만 강도와 낮은 형광으로 측정 효율이 좋음 


탄소 소재 (그래핀, 탄소나노튜브)



*권장 레이저 파장 - 532 nm, 633 nm


*파장 선택 기준 - 강한 라만 산란과 적절한 형광 간섭이 있는 파장 대역, 532 nm 또는 633 nm를 상황에 맞게 선택


PL 측정 (양자점, 반도체)



*권장 레이저 파장 - 325 nm (UV PL), 405 nm (가시광 PL에 일반적으로 사용)


*파장 선택 기준 - 전자 전이를 효과적으로 여기하는 레이저 대역. 짧은 파장을 사용해 높은 PL 효율과 넓은 측정 대역 확보 가능


활용도에 따른 모델 타입

타입별 주요 장점

Fusion

외부 장치(저온 장치, 특수 기기 등) 추가 연결하고 싶은 경우

Standard

외부 빛 간섭을 최소화하고 안정적인 측정을 원하는 경우

Inverted

세포 배양, 미세 유체 칩(Micro Fluidics) 등, 도립형 현미경이 필수인 경우

더 쉽고, 더 빠르게 

측정과 분석은 쉽고 빨라야 합니다. 이를 위해 측정과 분석 프로그램은 분리되어 사용성을 높였으며, 진화하는 기능은 모든 사용자에게 무상으로 제공합니다.



직관적인 UI


처음 사용하는 누구라도

쉽게 사용할 수 있는

사용자 중심의 인터페이스




측정 프로그램 Rays-On

직관적이고 간결한 UI로 빠른 측정 


  • 복잡하지 않은 레이아웃으로 누구나 쉽게 조작

  • 쉽고 빠른 데이터 확인과 데이터 갤러리 연동으로 효율적인 측정

  • 사용자별 측정 조건을 저장하고 불러올 수 있는 사용자 세팅 기능 지원
       



분석 프로그램(WeVu) 

개인 PC에서도 자유롭게, 독립형 분석 기능  


  • 측정 프로그램과 독립되어 장비 없이도 개인 공간에서 데이터 분석 가능

  • 데이터 갤러리에서 측정 데이터를 쉽고 빠르게 불러와 분석

  • 복잡한 설정 없이 간단한 조작만으로 다양한 분석 기능 제공
      



스펙트럼 매칭 분석 기능

(추가 옵션) 라이브러리 기반의 성분 식별 기능


  • 고분자부터 광물, 반도체, 포렌식까지, 시그마알드리치 포함한 방대한 라이브러리 제공 (약 27,000개)

  • 혼합물 분석, 성분 분석을 일반사용자도 쉽고 빠르게 처리 가능



연구 적합성에 대한 상담과 문의를 통해

데모 장비를 어디든 전달해 드립니다


위브의 시스템과 함께하세요.

부담 없이 편하게

언제든지 연락하세요.


A. 경기도 성남시 사기막골로 62번길 33

성남센터엠지식산업센터 F108 (13211).


T. 031 548 2990  F. 031 548 2991

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